В 2026 году стартует проект по созданию российского литографа, способного работать с топологическими нормами 90 нм. Об этом 20 марта 2026 года на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности заявил замминистра промышленности Василий Шпак. По данным CNews, исполнитель работ будет определен по результатам конкурса, а само создание оборудования может занять около четырёх лет и потребовать сотни миллионов долларов.
Кто станет разработчиком
На данный момент подобным оборудованием — литографами на 350 нм и 130 нм — в России занимается «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) совместно с белорусским «Планаром». Гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил изданию, что компания пока не решила, будет ли участвовать в новом конкурсе, поскольку в ноябре 2026 года планирует завершить разработку степпера с разрешением 130 нм.
Стоимость создаваемого ЗНТЦ литографа с длиной волны 130 нм составит $6 млн. Оборудование обещает скорость обработки от 100 до 140 пластин в час. В случае успеха эта платформа послужит технологической базой для перехода к нормам 90 нм.
Технологическая преемственность
По словам эксперта РИНЕЦЭ, академика Международной академии связи Дмитрия Пшиченко, разработка литографа с нуля может занять 5–10 лет и потребовать сотни миллионов долларов. Однако если речь идёт о локализации, адаптации или доработке существующих решений (например, на базе 130 нм), сроки и затраты могут быть существенно ниже — порядка 2–4 лет. При освоенной технологии 130 нм не требуется создавать всё оборудование заново: достаточно доработать имеющиеся элементы — заменить объективы, лазерные модули, систему управления, чтобы достичь разрешения в 90 нм.
Независимый эксперт и автор Telegram-канала RUSmicro Алексей Бойко отмечает, что разработанный литограф на 130 нм, например, с помощью двукратного экспонирования можно использовать и для создания чипов по топологии 90 нм.
Где применяются нормы 90 нм
Топологические нормы 90 нм востребованы в автомобильной электронике, промышленной автоматизации, энергетике, подчёркивает Пшиченко. Ключевым вопросом при этом является не столько сам литограф, сколько наличие полной экосистемы — фотошаблонов, материалов, EDA-инструментов и компетенций персонала, способного развивать и обслуживать установку. Без этого даже наличие оборудования не гарантирует массового производства.
Барьеры на пути к новым топологиям
Создание в России более современных литографов, включая оборудование на 90 нм, сопряжено с рядом проблем. Минпромторг в 2025 году отменил несколько тендеров на освоение производства материалов, критически важных для современных установок — например, слитков фторида кальция монокристаллического, применяемых при изготовлении оптических элементов лазеров. Эксперты полагают, что тендеры были отменены из-за сокращения финансирования и перераспределения бюджетов.
Собеседники издания видят серьёзные трудности именно с созданием оптики для литографов в России. Представитель отрасли микроэлектроники заявил, что кварц, необходимый для её производства, в стране обрабатывать не умеют. Также отмечены проблемы с фотошаблонами и масками на 90 нм, из-за чего освоение этой технологии пока застопорилось.
Тем не менее в этом направлении ведёт работу белорусский «Планар», на который в России делают ставку. Минпромторг на момент публикации не ответил на запрос о подробностях создания нового литографа.